日本种子研究所株式会社

日本种子研究所株式会社（SEED Lab., Corporation）是一家日本工程公司，总部位于神奈川县绫濑市。公司于1981年在东京都涩谷区成立，注册资本500万日元，旨在为半导体和平面显示器（FPD）行业开发改进的真空部件和系统。公司名称源自“System Engineering for Evaluation and Development”（评估与开发系统工程），体现了其评估现有产品并开发更优替代品的重点。 该公司设计、制造和销售真空设备，包括部件和加工零件，并提供改造、维修、大修、设备搬迁、受托制造和表面清洗（脱脂清洗和真空脱气处理）等一系列服务。公司在绫濑市设有工厂和洁净室，自1980年代中期以来一直在此运营。SEED Lab. 服务于半导体和FPD设备制造商等客户。 SEED Lab. 是一家私营公司，由代表董事木下时重领导。公司已获得ISO 9001认证，并持有古物商许可证。公司持续投资于设施，包括洁净室、真空加热炉和液氮供应设备，以支持其工程和制造业务。

日本种子研究所株式会社于1981年在东京都涩谷区成立，注册资本500万日元，商号为“株式会社日本シード研究所”。创始人木下时重旨在为快速发展的半导体行业开发改进的真空部件和系统。公司名称“SEED”代表“System Engineering for Evaluation and Development”（评估与开发系统工程），体现了其评估现有产品并开发更优替代品的使命。 1981年，公司在神奈川县绫濑市吉冈取得950平方米的工厂用地。1985年，第一期组装工厂竣工。1986年，公司获得中小企业创业振兴基金颁发的“开发援助金”。1990年，资本金增至1000万日元，并着手在绫濑工厂用地建设五层新总部大楼。1991年，新大楼竣工，公司迁至新址开始运营。 2000年，公司新取得工厂不动产（占地面积950平方米，建筑面积490平方米）。2001年，对前一年取得的工厂建筑进行扩建和改造。2002年，新设洁净室竣工，随后完成扩建工程。2006年，取得ISO 9001认证，并引进碳氢化合物系大型脱脂清洗装置。2007年，新研究栋和高等级洁净室（JIS B 9920 Class 6）竣工。2014年，引进真空加热炉。2015年，引进洁净室用门式移动起重机。2021年，引进洁净室用液氮供应设备。2022年，取得古物商许可证。2023年，公司网站更新。 如今，SEED Lab. 继续在绫濑总部运营，为日本客户提供真空设备及相关工程服务。

• 2023

  公司网站更新。

• 2022

  取得古物商许可证。

• 2021

  引进洁净室用液氮供应设备。

• 2015

  引进洁净室用门式移动起重机。

• 2014

  引进真空加热炉。

• 2007

  新研究栋和高等级洁净室（JIS B 9920 Class 6）竣工。

• 2006

  取得ISO 9001认证；引进碳氢化合物系大型脱脂清洗装置。

• 2002

  新设洁净室竣工并扩建。

• 2001

  工厂建筑扩建和改造。

• 2000

  新取得工厂不动产（占地面积950平方米，建筑面积490平方米）。

• 1991

  新总部大楼竣工；公司迁址。

• 1990

  资本金增至1000万日元；五层总部大楼开工建设。

• 1986

  获得中小企业创业振兴基金颁发的开发援助金。

• 1985

  绫濑第一期组装工厂竣工。

• 1981

  公司在东京都涩谷区成立，注册资本500万日元；在神奈川县绫濑市取得工厂用地。

定制真空技术的先驱，提供创新的工程解决方案。

• 真空设备

  真空设备及部件的设计、制造和销售。

• 加工零件

  真空应用加工零件的设计、制造和销售。

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