n&k Technology, Inc.

n&k Technology, Inc. 位于加利福尼亚州圣何塞，由 Rahim Forouhi 博士与 Iris Bloomer 博士于 1992 年创立。公司为半导体、光掩模、数据存储、平板显示及太阳能电池等行业制造高分辨率散射测量（OCD）与薄膜量测工具。其用于薄膜及 Trench/OCD 应用的光学量测系统被描述为经过现场验证，可用于监控关键工艺步骤，其分析基于 Forouhi-Bloomer 色散方程。

n&k Technology, Inc. 位于加利福尼亚州圣何塞，由 Rahim Forouhi 博士与 Iris Bloomer 博士于 1992 年创立。公司为半导体、光掩模、数据存储、平板显示及太阳能电池等行业制造极高分辨率、先进的散射测量（OCD）与薄膜量测工具。其工具可为涵盖当前及未来应用的大量 OCD 与薄膜结构提供测量。

光学量测系统被描述为经过现场验证且适用于量产，其分析基于 Forouhi-Bloomer 色散方程。

• Olympian 系列

  旗舰级高吞吐量 DUV-Vis-IR 散射仪/薄膜量测系统，采用微光斑技术，覆盖 190nm 至 15,000nm 的反射率测量。

• OptiPrime-X 系列

  高吞吐量 DUV-Vis-NIR 散射仪/薄膜量测系统，采用微光斑技术，覆盖 190nm 至 1000nm 的反射率测量，并配备 633nm 单波长椭偏仪。

• OptiPrime 系列

  高吞吐量 DUV-Vis-NIR 散射仪/薄膜量测系统，采用微光斑技术，覆盖 190nm 至 1000nm 的反射率测量。

• OptiPrime M 台式量测系统

  用于薄膜或 Trench/OCD 应用的台式量测系统，可采用仅反射率或反射率与透射率配置。

• Gemini 系列

  自动化量测系统，用于全面表征和监控当前及下一代 IC 工艺的薄膜与 OCD 应用，可同时进行反射率与透射率测量。

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