Zyron

Zyron是杜邦的一个商标，与面向全球电子行业销售的特种气体相关。该品牌是作为Freon名称在电子气体领域使用的后继者而创建的。杜邦历史上曾在多个类别中使用Freon，包括制冷剂气体，但鉴于臭氧层消耗问题，氯氟烃化合物的逐步淘汰使得有必要将电子工艺气体与制冷剂产品区分开来，并为该产品组合建立独立的身份。杜邦员工Paul Bechly和Nicholas Nazarenko博士于1991年10月开发了Zyron名称。该名称于1992年6月12日投入商业使用，并于1993年注册为杜邦商标。 该品牌涵盖了用于等离子体半导体工艺的气体。其主要应用包括蚀刻硅晶圆和清洁化学气相沉积腔室设备。在这些应用中，气体被引入工艺工具并在使用过程中基本被消耗或转化，而不是作为耐用的终端产品销售。这使得Zyron定位为面向半导体和电子制造商的工业工艺输入品牌，而不是面向消费者的气体标签。 Zyron的一个显著特点是其产品命名法。Bechly和Nazarenko在创建品牌的同时创建了命名系统。数字部分基于氟化烷烃的历史行业编号系统，并标识相关的化合物。N数字后缀表示纯度。例如，Zyron 116 N5指的是六氟乙烷，标称纯度为五个九，即99.999%，而Zyron 23 N3指的是三氟甲烷，纯度为99.99%。杜邦故意未对命名系统进行商标注册，允许更广泛的工业部门使用该编号方法。 有记录的Zyron产品包括基于六氟乙烷的Zyron 116 N5；基于八氟环丁烷的Zyron 318 N4；以及多种等级的Zyron 23，基于三氟甲烷。历史产品还包括Zyron 14、Zyron 32、Zyron 125和Zyron NF3，分别对应四氟甲烷、二氟甲烷、五氟乙烷和三氟化氮。这些产品属于更广泛的半导体工艺化学品生态系统，替代品包括氯化氢、三氯化硼、四氟化碳、三氟化氯、三氟化氮、硅烷、六氟化钨和其他工艺气体。 与该品牌相关的公开活动包括1999年和2001年的扩张公告、2002年关于Zyron NF3的公告、2007年对Zyron团队的表彰，以及与2010年SEMICON Taiwan相关的参与新闻。现有参考资料并未确定Zyron目前的商业状态、当前产品供应情况、除杜邦关联外的当前所有者结构、总部或官方活跃网站。因此，最好将其视为一个有历史记录的杜邦特种气体商标，其意义在于电子级工艺气体的开发和营销。

Zyron源于杜邦为电子特种气体创建独立身份的努力，这些气体此前以Freon名称销售。Freon曾用于多种工业用途的产品，包括制冷，但围绕氯氟烃化合物的环境和监管压力改变了该名称的商业背景。随着CFC化合物因导致臭氧层消耗而被逐步淘汰，一个独立的品牌对电子工艺气体变得有用，并有助于将该业务与制冷剂应用区分开来。 杜邦员工Paul Bechly和Nicholas Nazarenko博士于1991年10月开发了Zyron名称。该品牌于1992年6月12日首次商业使用，并于1993年成为杜邦注册商标。同一开发人员创建了一个专为特种气体市场技术清晰度而设计的产品命名框架。数字标识根据氟化烷烃的历史编号惯例标识化合物。N后缀表示纯度规格。因此，诸如Zyron 116 N5的产品标识六氟乙烷，纯度为五个九，而Zyron 23 N3标识三氟甲烷，纯度为99.99%。命名法本身故意未注册商标，以便在工业部门更广泛使用。 Zyron产品主要面向半导体制造和相关电子制造。其主要用途是硅晶圆的等离子体蚀刻和化学气相沉积腔室工具的清洁。这些是工艺应用，其中气体在制造过程中被消耗、分解或以其他方式转化。因此，该品牌代表工艺性能、化学特性和纯度控制，而不是成品消费品。 有记录的产品包括Zyron 116 N5、Zyron 318 N4、Zyron 23 N5和Zyron 23 N3。该产品组合历史上还包括Zyron 14、Zyron 32、Zyron 125和Zyron NF3。基础化合物涵盖氟碳和相关特种气体，包括六氟乙烷、八氟环丁烷、三氟甲烷、四氟甲烷、二氟甲烷、五氟乙烷和三氟化氮。这些材料在竞争激烈的工艺化学品环境中运作，其中其他化合物，包括氯基和硼基气体、氢化物、硅化合物和六氟化钨，可以满足特定的制造要求。 可用的历史记录还提到了1999年和2001年与Zyron相关的扩张公告、2002年的Zyron NF3公告、2007年的团队奖公告以及2010年的SEMICON Taiwan公告。它没有提供足够的信息来重建与这些事件相关的设施、商业结果、人员或战略后果。也没有确定该品牌目前的可用性、当前的公司结构，或者所有列出的产品是否仍在销售。因此，Zyron被记录为杜邦特种气体商标，在半导体工艺化学品中具有明确的历史作用，但关于其现状的公开信息有限。

• 2010

  SEMICON Taiwan公告

  [1]Zyronen.wikipedia.org

  Zyron在与SEMICON Taiwan相关的公告中被提及。

• 2007

  团队表彰

  [1]Zyronen.wikipedia.org

  记录了Zyron团队奖公告。

• 2002

  Zyron NF3公告

  [1]Zyronen.wikipedia.org

  杜邦宣布了与Zyron NF3氮三氟化物产品相关的项目。

• 2001

  第二次扩张公告

  [1]Zyronen.wikipedia.org

  记录了涉及Zyron的进一步扩张公告。

• 1999

  扩张公告

  [1]Zyronen.wikipedia.org

  记录了Zyron扩张公告，但现有来源未具体说明其范围。

• 1993

  商标注册

  [1]Zyronen.wikipedia.org

  Zyron成为杜邦注册商标。

• 1992

  首次商业使用

  [1]Zyronen.wikipedia.org

  Zyron名称于1992年6月12日首次在商业上用于杜邦的电子特种气体业务。

• 1991

  Zyron名称开发

  [1]Zyronen.wikipedia.org

  Paul Bechly和Nicholas Nazarenko博士在杜邦内部开发了Zyron名称及其相关的产品命名系统。

一个工业特种气体商标，定位于用于半导体制造的高纯度氟化气体，特别是等离子体蚀刻和腔室清洁。

• 高纯度半导体工艺气体

  Zyron 116 N5

  基于六氟乙烷的Zyron等级。116标识根据氟化烷烃编号惯例标识化合物，而N5表示五个九纯度，即99.999%。它面向电子行业的等离子体工艺，如晶圆蚀刻和腔室清洁。

• 高纯度半导体工艺气体

  Zyron 318 N4

  基于八氟环丁烷的Zyron等级。其N4后缀标识品牌技术命名系统下的四个九纯度等级。该产品与基于等离子体的半导体制造应用相关。

• 高纯度半导体工艺气体

  Zyron 23 N5

  三氟甲烷的五个九纯度等级。它构成Zyron电子气体系列的一部分，用于半导体制造中的特殊等离子体工艺。

• 高纯度半导体工艺气体

  Zyron 23 N3

  一种三氟甲烷产品，标识为Zyron 23，带有N3纯度后缀。N3表示99.99%纯度。它定位于电子行业的工艺使用。

• 半导体腔室清洁气体 · 2002

  Zyron NF3

  基于三氟化氮的Zyron产品，一种用于半导体制造的气体，特别是用于清洁化学气相沉积设备。2002年记录了Zyron NF3公告。

• 特种工艺气体

  历史Zyron氟碳产品

  历史上记录的产品系列还包括Zyron 14、Zyron 32和Zyron 125，分别基于四氟甲烷、二氟甲烷和五氟乙烷。现有资料未确定其上市日期或当前可用性。

• 1991

  创建独立的电子气体品牌战略

  背景

  杜邦需要将电子工艺气体与也使用Freon名称的制冷剂产品区分开来，特别是在CFC化合物因臭氧层消耗问题而被逐步淘汰的情况下。

  采取的行动

  公司开发了Zyron名称和一套独立的电子行业特种气体技术命名系统。

  后续影响

  该名称于1992年投入商业使用，并于1993年注册为杜邦商标。

  来源

• 1991

  开放的技术命名法战略

  背景

  特种气体客户和工业参与者需要一种一致的方式来识别化合物和纯度等级。

  采取的行动

  Bechly和Nazarenko创建了一个数字化合物识别系统，带有N数字纯度后缀，并故意未对命名法进行商标注册。

  后续影响

  该系统可供更广泛的工业采用，而Zyron品牌本身仍与杜邦相关联。

  来源

1. 1Zyronen.wikipedia.org