维斯特克电子束有限公司
德国制造商，生产用于半导体、光掩模和前沿研究应用的 50 kV 可变形状电子束光刻系统。
最近更新 2026年9月27日
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概览
维斯特克电子束有限公司（Vistec Electron Beam GmbH）是一家总部位于德国耶拿的电子束光刻设备供应商。公司设计、制造、销售并维护 50 kV 可变形状束（VSB）光刻系统，用于半导体制造中的电子束直写、直写掩模制作、光子学、微光学以及一系列新兴应用。其产品组合涵盖 200 mm 和 300 mm 行程范围的通用平台，设备具备自动处理、高灵活性、写入精度和产能，可支持原型制作和小批量制造。 公司的历史可追溯至约六十年前，当时卡尔·蔡司（Carl Zeiss）在耶拿的一批工程师基于电子显微镜方面的经验，开始探索将电子用于微光刻的可能性。1996 年 3 月，Jenoptik Microfab GmbH 的 Microlit 部门——即原蔡司电子束光刻部门——被出售给徕卡显微系统（Leica Microsystems），成为 Leica Lithographie Systeme Jena GmbH。经过进一步变迁，该业务于 2005 年更名为 Vistec，并于 2012 年加入 HEIDENHAIN 集团。在这一历史进程中，数百台可变形状电子束写入设备销往全球，核心技术不断改进；如今的系统实现了可变形状束与单元投影光刻的无缝集成。 维斯特克服务于三大主要市场：前沿研究、掩模与玻璃基板，以及半导体行业。其电子束写入设备应用于应用研究、晶圆厂直写生产、光掩模写入以及光子学/微光学。公司强调定制化纳米写入设备，可针对特定应用配置不同的基板材料和类型——从 100 至 300 mm 晶圆、最大 9 英寸掩模，甚至小片样品——均可在同一台设备上完成，无需工程切换。高效的数据处理和扩展曝光策略开辟了新应用，尤其是在 AR/VR 领域。 除德国总部外，维斯特克在亚太、美国和欧洲设有服务与支持中心。公司提供覆盖全生命周期的全面客户支持：早期评估与规划、设施准备建议、发货与安装、验收、客户培训、保修期技术支持、工艺集成以及长期现场服务。公司还运营一家经认证的校准实验室，用于精密测量。维斯特克将自身定位为提供先进电子束光刻领先技术解决方案的长期设备供应商，口号是“We understand E-Beam”（我们懂电子束）。
沿革
维斯特克电子束的历史始于约 60 年前，当时卡尔·蔡司（Carl Zeiss）在耶拿的一批工程师基于电子显微镜方面的经验，开始探索将电子用于微光刻的可能性。这项早期工作为耶拿奠定了深厚的电子束技术基础。 1996 年 3 月，Jenoptik Microfab GmbH 的 Microlit 部门——即原蔡司电子束光刻部门——被出售给徕卡显微系统（Leica Microsystems），成为 Leica Lithographie Systeme Jena GmbH。这家诞生于 1996 年的电子束公司经历了进一步变迁，并于 2005 年更名为 Vistec。2012 年，Vistec 加入 HEIDENHAIN 集团，获得了稳定的工业母公司。 在这一漫长历史中，数百台可变形状电子束写入设备销往全球。核心技术始终保留在这些系统中，并不断改进和完善。如今 Vistec 的电子束写入设备实现了可变形状束与单元投影光刻的无缝集成，这些系统已被证明是全球市场上最灵活、制造最稳健的工具之一。 Vistec 的电子束光刻工具应用于众多领域，包括应用研究、晶圆厂直写生产、光掩模写入以及光子学/微光学。公司工程师提供定制化纳米写入设备，可针对特定应用配置不同的全自动处理基板材料和类型——如 100 至 300 mm 晶圆、最大 9 英寸掩模，甚至小片样品——均可在同一台设备上完成，无需工程切换。 到 2026 年，公司庆祝以 Vistec 之名 30 周年（自 1996 年电子束公司成立算起），同时纪念 60 年电子束创新。在 EMLC 2026 上，Vistec 展示了光子学与先进半导体应用电子束光刻的进展，并强调了近期客户里程碑。公司继续以耶拿总部为基地运营，并在亚太、美国和欧洲设有服务与支持中心。
- 2026
Vistec 庆祝以 Vistec 之名 30 周年及 60 年电子束创新；在 EMLC 2026 上展示进展。
- 2012
Vistec 加入 HEIDENHAIN 集团。
- 2005
经过进一步变迁，这家诞生于 1996 年的电子束公司更名为 Vistec。
- 1996
3 月，Jenoptik Microfab GmbH 的 Microlit 部门（原蔡司电子束光刻部门）被出售给徕卡显微系统，成为 Leica Lithographie Systeme Jena GmbH。
- 1966
卡尔·蔡司在耶拿的工程师基于电子显微镜经验，开始探索将电子用于微光刻（约在 2026 年前 60 年）。
产品与定位
先进电子束光刻领先技术解决方案的长期供应商，强调灵活性、写入精度、产能以及全生命周期客户支持。
50 kV 可变形状束（VSB）光刻系统
由 Vistec 开发、制造、销售和维护；用于半导体制造中的电子束直写、直写掩模制作、光子学及新兴市场。
200 mm 和 300 mm 行程范围平台
覆盖广泛应用范围的通用平台。
定制化纳米写入设备
针对特定应用配置，可全自动处理 100 至 300 mm 晶圆、最大 9 英寸掩模及小片样品等基板材料和类型，均可在同一台设备上完成，无需工程切换。
可变形状束与单元投影集成光刻
如今的电子束写入设备实现了可变形状束与单元投影光刻的无缝集成。
经认证的校准实验室服务
在 Vistec 经认证的校准实验室中提供精密测量服务。
来源5 个来源
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