奥拉米尔

奥拉米尔半导体设备有限公司是一家总部位于以色列雷霍沃特的半导体设备公司。该公司开发了先进的激光清洁系统，用于半导体晶圆制造过程中。其技术通过获得专利的单步干式工艺去除硅基板上的颗粒和其他污染物，为半导体制造中传统的湿式清洁方法提供了一种替代方案。 奥拉米尔于1992年由费尔柴尔德公司、Teuza风险投资基金和以色列拉斐尔开发公司共同创立。公司名称是为了纪念阿米尔·西奈，他是一名以色列国防军特种部队士官，于1984年7月在黎巴嫩战争中阵亡。阿米尔·西奈的父亲丹·西奈是奥拉米尔的创始人之一。 该公司的主要技术贡献是开发了基于激光的晶圆清洁设备。半导体制造需要极其清洁的晶圆表面，因为微观颗粒或残留物会干扰光刻、沉积、蚀刻和其他制造步骤。奥拉米尔的方法利用激光能量以干式、单步操作去除污染物。因此，该技术定位于服务于半导体制造商和晶圆厂的专用工艺设备市场。 奥拉米尔于2001年6月27日被美国主要半导体设备制造商应用材料公司收购。据报道，交易价值为2100万美元。收购后，奥拉米尔不再作为独立公司运营。其技术和专业知识成为应用材料公司更广泛的半导体设备业务的一部分。在现有参考资料中，未确定其独立的产品组合、管理团队、网站或独立运营市场。

奥拉米尔半导体设备有限公司于1992年由费尔柴尔德公司、Teuza风险投资基金和以色列拉斐尔开发公司在以色列成立。公司位于雷霍沃特，该地与以色列的科技和研究领域相关。公司以阿米尔·西奈的名字命名，他是一名以色列国防军特种部队士官，于1984年7月在黎巴嫩战争中阵亡。阿米尔·西奈的父亲丹·西奈参与了公司的创立。 奥拉米尔专注于半导体制造设备，而非消费电子或半导体器件。其专业领域是晶圆清洁，这是集成电路生产中的关键工艺。硅晶圆在整个制造过程中必须保持无颗粒和其他污染物，因为污染会降低良率并影响成品芯片的性能和可靠性。 该公司开发了一种获得专利的基于激光的清洁方法，可以通过单步干式工艺去除硅基板上的颗粒和其他污染物。这种方法之所以引人注目，是因为它依赖激光技术，而不是传统的湿式清洁序列。现有参考资料将该技术视为奥拉米尔在半导体设备行业中的重要性的主要来源，但未提供具体商业设备型号、客户合同、生产量或收入等细节。 奥拉米尔于2001年6月27日被应用材料公司以约2100万美元收购。应用材料公司是一家美国半导体设备制造商，拥有更广泛的芯片制造工具组合。此次收购结束了奥拉米尔作为独立公司的存在，并将其技术转移至应用材料公司。现有资料中没有迹象表明奥拉米尔在交易后继续作为独立品牌、上市公司或独立运营业务存在。

• 2001

  被应用材料公司收购

  [1]Oramiren.wikipedia.org

  应用材料公司于2001年6月27日收购奥拉米尔，交易金额据报道为2100万美元。

• 1992

  奥拉米尔成立

  [1]Oramiren.wikipedia.org

  奥拉米尔半导体设备有限公司由费尔柴尔德公司、Teuza风险投资基金和以色列拉斐尔开发公司共同创立。

专注于获得专利的基于激光的单步干式硅晶圆清洁技术的专业半导体工艺设备开发商。

• 半导体制造设备

  基于激光的晶圆清洁技术

  奥拉米尔开发了一种获得专利的基于激光的工艺，用于去除硅晶圆和基板上的颗粒和其他污染物。该工艺被设计为半导体制造中的单步干式清洁操作，满足无需传统湿式清洁序列即可实现高度清洁晶圆表面的需求。现有参考资料未指明具体的商业产品名称或型号。

• 2001

  应用材料公司收购奥拉米尔并购

  背景

  奥拉米尔开发了用于半导体晶圆的专业激光干式清洁技术。

  采取的行动

  应用材料公司于2001年6月27日以约2100万美元收购了奥拉米尔。

  后续影响

  奥拉米尔不再作为独立公司运营，其技术和专业知识成为应用材料公司半导体设备业务的一部分。

  Reported acquisition value. $21 million (June 27, 2001)

  来源

1. 1Oramiren.wikipedia.org