日新离子设备株式会社

日新离子设备株式会社是一家总部位于日本京都的公司，成立于1999年4月1日。它是日新電機株式会社的全资子公司。公司开发、设计、制造、销售和维护半导体制造设备和平面显示器制造设备。它在全球范围内提供离子注入设备及相关服务。

该公司于1999年4月1日成立，承接了日新電機株式会社的制造业务。其历史可追溯至1973年，当时日新電機与HVEE进行技术合作，1974年开始生产离子注入设备。多年来，公司开发了各种离子注入系统，包括用于半导体和平面显示器的系统。2001年，在台湾设立合资公司，并在上海开设代表处。2002年，在韩国和中国设立子公司，并开设新加坡分公司。2005年，开设滋贺工厂和等离子技术开发中心。2010年，在美国设立全资子公司。2011年，在中国设立生产子公司，并开发了世界首创的适用于第5.5代和第6代基板的离子注入设备。

1. 1日新イオン機器株式会社nissin-ion.co.jp
2. 2沿革 - 日新イオン機器株式会社nissin-ion.co.jp
3. 3会社情報 - 日新イオン機器株式会社nissin-ion.co.jp