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ASELTA Nanographics

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总部位于法国格勒诺布尔的软件公司,为半导体行业开发计算光刻与掩模数据准备软件。

最近更新 2026年10月5日

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概览

ASELTA Nanographics 是一家总部位于法国格勒诺布尔的法国软件公司。公司活跃于半导体制造软件领域,专注于计算光刻、掩模数据准备(MDP)以及相关的工艺仿真与修正工具,这些工具被光掩模制造商和集成电路制造商使用。公司产品帮助半导体晶圆厂和掩模工厂提高图形保真度、缩短周转时间,并应对先进技术节点日益增长的复杂性。 ASELTA Nanographics 是一家私人持股公司。其核心产品是应用数值建模与修正算法处理用于写入光掩模的数据,以应对光学光刻的分辨率极限。这使公司处于电子设计自动化(EDA)与制造软件生态系统中,与规模更大的供应商并存,但在掩模合成与数据准备领域拥有专注的细分市场。 公司位于格勒诺布尔,这是欧洲微电子与纳米技术研究的重要中心,便于获得高技能人才并靠近研究机构和半导体企业。ASELTA Nanographics 服务于全球半导体供应链中的客户,包括欧洲、美国和亚洲的掩模工厂和芯片制造商。 由于公司为私人持股且不公开披露详细财务信息,现有证据无法提供具体的收入数据、员工人数和所有权结构。该品牌最好被理解为半导体制造价值链中的专业 B2B 软件供应商。

沿革

ASELTA Nanographics 是一家总部位于法国格勒诺布尔的公司,活跃于半导体软件领域。格勒诺布尔是欧洲微电子与纳米技术的重要中心,拥有大型研究实验室、大学和半导体企业。地处这一产业集群很可能塑造了公司专注于光刻与掩模数据准备先进计算方法的方向。 公司开发用于计算光刻和掩模数据准备的软件。随着半导体制造向更小的技术节点推进,光刻所用光的波长大于所印刷的图形尺寸,这些领域变得日益重要。这需要复杂的数值修正与仿真,以在晶圆上实现可接受的图形保真度。ASELTA Nanographics 通过供光掩模制造商和集成电路生产商使用的软件工具来满足这一需求。 作为私人持股公司,ASELTA Nanographics 不公开披露详细的财务或运营历史。现有证据确认其位于法国格勒诺布尔,并确认其公司身份。具体的成立日期、融资事件、产品发布时间线和客户名称未在提供的证据中给出,因此此处省略而非猜测。 公司网站 aselta.com 是其主要的公开窗口,在此向半导体行业展示其软件产品。其市场具有全球性,反映了半导体供应链的国际化特征,而运营基地仍在法国。

产品与定位

位于格勒诺布尔微电子产业集群,专注于半导体掩模合成与数据准备的专业 B2B 软件供应商。

  • 计算光刻软件

    对光刻图形进行建模与修正,以提高先进节点图形保真度的软件。

  • 掩模数据准备(MDP)软件

    为光掩模写入准备和验证掩模版图数据的工具。

  • 光学邻近效应修正(OPC)工具

    补偿光刻中光学与工艺畸变的算法。

来源2 个来源

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